【轉】光刻機終極十問:中國有沒有必要舉全國之力,去造一臺光刻機?
@14亿少女的梦:
作者: 騰訊新聞知識官、 AMD 高級數字芯片設計工程師 溫戈 侵刪。 芯片之於光刻機,就如同人和大腦的關係,但縱覽幾十年中國乃至全球球光刻機產業的發展卻表現的差強人意,呈現出了唯有荷蘭ASML“一家獨大”的局面。 3月初,中芯國際迎來了久違的好消息:中芯國際與荷蘭光刻機公司阿斯麥(以下簡稱“ASML”)簽下大單,訂購12億美元光刻機。 近年來,我國雖然在科技研發上取得了多項重大進步,但在芯片研發和製造領域卻亟待突破,特別是在新冠疫情之後,全球新一輪的“芯片荒”來襲造成了產業鏈對於芯片供不應求的問題,我國想要推進獨立自主的芯片研發,光刻機的生產製造就顯得尤爲重要。 芯片雖小,製造難度卻很大,而這一過程中一個關鍵的工藝機器——光刻機的製造成爲了一大難題。芯片之於光刻機,就如同人和大腦的關係,但縱覽幾十年中國乃至全球球光刻機產業的發展卻表現的差強人意,呈現出了唯有荷蘭ASML“一家獨大”的局面。 我們不禁也對此有很多疑問:爲何中國乃至全球對於製造光刻機的難度如此之大?ASML公司是如何做到光刻機產業中“全球霸主”的地位?爲何該公司一臺光刻機的售價達到了數億美元?繼3月初的中國“芯痛”終極十問:我們能造原子彈,卻造不出一枚小芯片?之後,該文章作者再次圍繞光刻機的十個重要問題爲您解讀。(關於光刻機,你還有哪些疑問,歡迎在底部評論區添加話題#提問專家#並留言) (ASML EUV光刻機TWINSCAN NXE3400B,來源:ASML官網) Q1:光刻機是做什麼的?是在造芯的哪個過程發揮作用? 光刻機(英文“Mask Aligner”) ,又名掩模對準曝光機,是芯片製造流程中光刻工藝的核心設備。芯片的製造流程極其複雜,我們可以概括爲幾大步驟:硅片的製備-->外延工藝-->熱氧化-->擴散摻雜-->離子注入-->薄膜製備-->光刻-->